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DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC 氣動電磁閥

描述:DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC
真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產(chǎn)生氧化、脫碳及其他腐蝕

更新時間:2024-03-05
產(chǎn)品型號:MBC5000-1011-1CB04
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
詳情介紹
品牌其他品牌材質(zhì)
連接形式螺紋類型直通式
適用介質(zhì)水,蒸汽,油品,各種高腐蝕化學介質(zhì),弱酸堿介質(zhì),氨氣,氮氣,氧氣,氫氣,液化氣,空氣,煤氣,含塵氣體流動方向換向
零部件及配件定位器用途儀表
標準其他形態(tài)柱塞式
壓力環(huán)境常壓工作溫度常溫
公稱通徑20mm

DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC

真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產(chǎn)生氧化、脫碳及其他腐蝕,而且具有凈化表面脫油除脂的作用。在真空中能將材料在冶煉過程中吸收的氫、氮和氧扽氣體脫出,提高材料的質(zhì)量和性能。如:將W18Cr4V制作的超高壓針閥進行真空熱處理后,有效地增加了針閥的沖擊任性,同時提高了力學性能和使用壽命。

表面強化處理

為了提高零件的性能,除了改變材質(zhì)以外,更多的是采用表面強化處理方法。如表面淬火(火焰加熱、高中頻加熱表面淬火、接觸電加熱表面淬火、電解液加熱表面淬火、激光電子束加熱表面淬火等)、滲碳、氮化、氰化、滲硼、滲金屬(TD法)、激光強化、化學氣相沉積(CVD法)、物理氣相沉積(PVD法)、等離子體化學氣相沉積(PCVD法)等離子噴涂等。

物理氣相沉積(PVD法)

在真空中應用蒸鍍、離子鍍、濺射等物理方法產(chǎn)品金屬離子,這些金屬離子在工件表面沉積,形成金屬涂層,或與反應器反應形成化合物涂層,這種處理工藝方法稱為物理氣相沉積,簡稱PVD法。此方法沉積溫度低,處理溫度400~600℃,變形小,對零件的基體組織及性能影響小。利用PVD法在W18Cr4V制造的針閥上沉積TiN層,而TiN層有的硬度(2500~3000HV)和高耐磨性,提高了閥門抗腐蝕性,在稀的鹽酸、硫酸、硝酸中不受侵蝕,能保持光亮表面。PVD處理后覆蓋層精度很好??裳心伖猓浔砻娲植诙葹镽a0.8µm,拋光后可達到0.01µm。

DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC


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